Привет! Как поставщик 5-дюймовой кремниевой пластины (125 мм)нажмите здесь, чтобы проверить этоЯ видел свою долю вафель разной степени чистоты. Очистка этих пластин очень важна, используете ли вы их для производства полупроводников, исследований или любых других высокотехнологичных приложений. Итак, давайте углубимся в то, как очистить 5-дюймовую кремниевую пластину.
Зачем чистить кремниевые пластины?
Прежде чем мы приступим к процессу очистки, важно понять, почему нам вообще нужно чистить эти пластины. Во время производства, обработки или хранения кремниевых пластин они могут накапливать всевозможные загрязнения. Это могут быть частицы пыли, органические остатки от отпечатков пальцев или перчаток и даже металлические примеси. Если эти загрязнения не удалить, они могут испортить работу конечного полупроводникового устройства. Например, одна частица пыли может вызвать короткое замыкание крошечного транзистора на пластине, что приведет к выходу из строя продукта.
Подготовка к очистке
Прежде всего, вам нужно собрать все необходимые припасы. Если возможно, вам понадобится чистое помещение. Чистое помещение помогает свести к минимуму попадание новых загрязнений в процессе уборки. Вам также понадобятся чистящие средства, деионизированная вода и соответствующие чистящие средства.
Когда дело доходит до чистящих химикатов, наиболее распространенными из них являются перекись водорода (H₂O₂), серная кислота (H₂SO₄) и гидроксид аммония (NH₄OH). Но будьте осторожны с этими химикатами, поскольку они могут быть довольно опасными. Всегда надевайте соответствующие средства индивидуальной защиты (СИЗ), такие как перчатки, очки и лабораторный халат.
Процесс очистки
1. Очистка растворителем
Первым этапом очистки 5-дюймовой кремниевой пластины обычно является очистка растворителем. Это помогает удалить органические загрязнения, такие как масла и жиры. Вы можете использовать растворители, такие как ацетон и изопропиловый спирт (IPA).
Начните с помещения пластины в ванну с растворителем. Ацетон отлично растворяет многие виды органических материалов. Оставьте пластину в ацетоне на несколько минут. Затем выньте его и промойте изопропиловым спиртом. IPA менее агрессивен, чем ацетон, и помогает удалить оставшиеся остатки ацетона. После промывки IPA быстро промойте пластину деионизированной водой, чтобы избавиться от IPA.
2. Очистка RCA
Процесс очистки RCA — это хорошо известный и широко используемый метод очистки кремниевых пластин. Он состоит из двух основных этапов: Стандартная очистка 1 (SC1) и Стандартная очистка 2 (SC2).
Стандартная очистка 1 (SC1):
Раствор SC1 представляет собой смесь гидроксида аммония (NH₄OH), перекиси водорода (H₂O₂) и деионизированной воды в соотношении примерно от 1:1:5 до 1:2:7. Этот раствор используется для удаления органических загрязнений и частиц с поверхности пластины.
Нагрейте раствор SC1 примерно до 70–80°C. Поместите пластину в нагретый раствор и дайте ей пропитаться примерно 10–15 минут. Гидроксид аммония помогает расщеплять органические материалы, а перекись водорода действует как окислитель. По истечении времени замачивания извлеките пластину и тщательно промойте ее деионизированной водой.
Стандартная очистка 2 (SC2):
Раствор SC2 представляет собой смесь соляной кислоты (HCl), перекиси водорода (H₂O₂) и деионизированной воды в соотношении примерно 1:1:6. Этот раствор используется для удаления металлических загрязнений с поверхности пластины.
Также нагрейте раствор SC2 примерно до 70–80°C. Погрузите пластину в раствор SC2 примерно на 10–15 минут. Соляная кислота помогает растворять металлические примеси, а перекись водорода поддерживает процесс окисления. После замачивания снова промойте пластину деионизированной водой.
3. Окончательное полоскание и сушка.
После всех этапов химической очистки окончательно промойте пластину деионизированной водой. Деионизированная вода должна быть высокого качества, с удельным сопротивлением не менее 18 МОм·см. Это помогает удалить оставшиеся химические остатки с поверхности пластины.
Для сушки вафли можно использовать центрифугу. Поместите вафлю в центрифугу и вращайте ее на высокой скорости. Центробежная сила помогает удалить воду с поверхности пластины. Вы также можете использовать газообразный азот для сушки пластины феном, что является щадящим и эффективным способом избавиться от оставшихся капель воды.
Пост-осмотр очистки
Когда пластина станет чистой и сухой, важно ее осмотреть. Вы можете использовать микроскоп, чтобы проверить наличие оставшихся загрязнений или повреждений на поверхности пластины. Если вы обнаружите какие-либо проблемы, возможно, вам придется повторить процесс очистки или предпринять другие корректирующие действия.
Другие соображения
Если вы имеете дело с очень чувствительными приложениями, возможно, вам стоит рассмотреть возможность использования метода плазменной очистки. Плазменная очистка использует низкотемпературную плазму для удаления загрязнений с поверхности пластины. Это более продвинутый и точный метод, но и более дорогой.
Также будьте осторожны с очищенными пластинами. Используйте чистые пинцеты или инструменты для манипуляций, чтобы избежать повторного загрязнения пластины.
Сопутствующие товары
Если вас интересуют кремниевые пластины других размеров, мы также предлагаем12-дюймовая кремниевая пластина (300 мм)и8-дюймовая кремниевая пластина (200 мм). Эти пластины проходят аналогичные процессы очистки для обеспечения высокого качества работы.
Контакт для покупки
Если вы ищете высококачественные 5-дюймовые кремниевые пластины или у вас есть какие-либо вопросы о процессе очистки или других наших продуктах, свяжитесь с нами. Мы здесь, чтобы помочь вам со всеми вашими потребностями в кремниевых пластинах. Независимо от того, являетесь ли вы небольшим исследователем или крупным производителем полупроводников, у нас есть подходящие пластины для вас.
Ссылки
- «Справочник по технологии очистки кремниевых пластин», авторы Ёсио Ниси и Рональд Деринг.
- «Технология производства полупроводников», Стэнли Вольф и Ричард Н. Таубер.